金屬高壓鍋爐管防腐蝕處理方法

特別是指金屬高壓鍋爐管防腐蝕處理方法。金屬腐蝕遍及國民經濟和國防建設各個領域，金屬高壓鍋爐管防腐蝕處理方法金屬高壓鍋爐管防腐蝕處理方法本發明屬于新材料領域。危害十分嚴重。首先，腐蝕會造成重大的直接或間接的經濟損失。據工業發達的國家的統計，因腐蝕造成的經濟損失約占當年國民經濟生產總值的1.5%-4.2%其次，金屬腐蝕，特別是應力腐蝕和腐蝕疲勞，往往會造成災難性重大事故，危及人身安全。再者，腐蝕不但損耗大量金屬，而且浪費了大量能源，每年因腐蝕要損耗10%-20%金屬。另外，石油、化工、農藥等工業生產中，因腐蝕造成的設備跑、冒、滴、漏，不但造成經濟損失，還可能使有毒物質泄漏，造成高壓鍋爐管環境污染，危及人民健康。同時，腐蝕還可能成為生產發展和科技進步的障礙。高壓鍋爐管合金在各種環境作用下發生的腐蝕遍及國民經濟的各個部門，造成巨大損失。為了防止腐蝕的發生，現已經有多種技術用來防止腐蝕的發生。其中主要的防腐技術是采用氧化膜技術，防腐漆技術和緩蝕劑技術。各種金屬腐蝕的防護技術中，緩蝕劑技術由于工藝簡單、適用性強而成為最有效和最常用的方法之一。但是緩蝕劑技術有明顯的局限性，緩蝕劑應用最為廣泛的液相介質中，緩蝕劑必須有一定的溶解度，而且必須達到一定的濃度。傳統的緩蝕劑由于毒性較大，給環境造成了污染；同時，由于高壓鍋爐管緩蝕劑用量較小，外界微小的變化就會對體系造成較大的影響，這也給緩蝕機理的研究帶來了很大的難度，這些因素限制了緩蝕劑的進一步發展。目前在生產半導體晶片中使用的許多處理系統出于提高系統產量的目的能 夠一次加工一個以上的晶片。高壓鍋爐管然而現有技術中聲稱，與多晶片處理室結構相比，單晶 片處理室提供了更一致的處理結果。大概，跨晶片(across-waf和“站到站 station-to-st中的這種一致性的下降被認為可直接歸因于在共用的處理室和環 境中的相鄰晶片處理站之間的連通。然而，特別是考慮到不斷減少的器件特征尺寸的工業重點，處理一致性越來越受 關注。美國專利No.5855681下文稱飛81專利)中看到一個例子，

其試圖在與在共用處理環境中的批處理有關的所謂的串擾(cross-talk污染問題和使用單晶片處理 室時產量有限之間提供折中辦法。該專利采納了串聯”單晶片處理室的使用，其具有被描 述為相互分離開的處理區(見第4欄第37-40行)單個室本體被用于限定出這些在處理 站之間使用共用室壁的處理區。該專利認為依靠將相鄰處理區之間的連通限制為僅僅通過 排放系統選擇性地發生而使得由每個串聯室限定的處理區與其它串聯室的處理區可隔絕 開。這樣的選擇性連通大概是基于真空泵系統的泵送狀態來被控制。除此以外，從處理的角 度看，串聯室的功能看起來和一對分開的單晶片處理室基本相同(例如，見第2欄第54-56行)這點上，系統用于在至少兩個區域(見第4欄第44-51行)同時進行的多個、獨立 工序，合理地建議了第一工序可以在串聯室的一個處理區內進行，同時第二、不同的工序 同一串聯室的另一處理區內進行。雖然為了每個室內同時執行不同工序而提供的飛81專利的分離的串聯室所聲 稱的能力可能有相關的優點，但是這里認識到要擔心的即使在兩個室內都執行相同 工序，處理室可能提供不同的結果，因為每個室中的條件過于獨立并且沒有使這些條件 保持相等的反饋控制。例如，如果有任何趨勢在排放通道621內產生污染物這就會發生，導 致一個室內的壓力相對于另一室的壓力不同。考慮到上述問題和雖然飛81室設計的總體 復雜性目的于改善“串擾”問題，但導致處理室的成本高，因此相信需要進一步的改善。上述相關技術的例子及其相關的局限性目的于示例而不是排它性的閱讀 說明書和學習了附圖后，相關技術的其它局限性對于本領域的技術人員來說是顯而易見 

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